MOCVDrako ostia eramailea

MOCVDrako Semicorex Wafer Carrier, Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) behar zehatzetarako egina, ezinbesteko tresna gisa agertzen da Si edo SiC kristal bakarrean eskala handiko zirkuitu integratuetarako prozesatzeko. MOCVD konposiziorako Wafer Carrier-ek garbitasun paregabea, tenperatura altuekiko eta ingurune korrosiboekiko erresistentzia eta zigilatzeko propietate bikainak ditu atmosfera garbia mantentzeko. Semicorex-en kalitatea kostu-eraginkortasunarekin uztartzen duten MOCVDentzako errendimendu handiko obleak fabrikatzen eta hornitzen ari gara.

Bidali kontsulta

Produktuaren Deskribapena

Semicorex Wafer Carrier-ek MOCVD-ren MOCVD aplikazioetarako diseinu aurreraturako oinarri seguru gisa funtzionatzen du, obleak erdieroaleak babesteko adituz diseinatuta. Diseinu optimizatu bat eskaintzen du, oblei estuki atxikitzea bermatzen duena eta gasen banaketa optimoa errazteko materiala uniformeki geruzatzeko. Silizio Karburoa (SiC) estaldura batekin hobetuta, Lurrun Kimikoaren Deposizioaren bidez (CVD), MOCVD-rako Wafer Carrier-ek grafitoaren erresilientzia eta CVD SiC-ren ezaugarriak konbinatzen ditu tenperatura altuak jasateko, hedapen termiko koefiziente arbuiagarria duela eta bero-sakabanaketa berdindua sustatuz. Oreka hori funtsezkoa da obleen gainazaleko tenperaturaren osotasuna zaintzeko.

Korrosioaren inhibizioa, erresilientzia kimikoa eta, ondorioz, funtzionamendu-bizitza luzea bezalako ezaugarriak harrotuta, MOCVD-rako Wafer Carrier-ek obleen kalibrea eta etekina nabarmen igotzen ditu. Bere iraunkortasunak onura ekonomiko zuzena dakar, MOCVD-rako Wafer Carrier zure erdieroaleen ekoizpen-eragiketetarako kontratazio-aukera jakintsu gisa kokatuz.

Semicorex Wafer Carrier obleen prozedura epitaxialetarako zehatz-mehatz egokitua, MOCVD-rako obleen garraio seguruan nabarmentzen da tenperatura altuko labeetan. Bere marko iraunkorrak obleak oso-osorik mantentzea bermatzen du, eta horrela, hazkunde epitaxialaren fase kritikoetan kalteak izateko joera murrizten du.**