Prozesu epitaxialaren beheko bafleetarako bigarren erdiko piezak

Epitaxial Prozesuan Behe ​​Baffles bigarren zatiek forma erdi-zilindriko bereizgarria dute, estrategikoki diseinatutako gas-fluxua epitaxial erreaktorean optimizatzeko. Kalitate handiko grafitoz eginak CVD SiC estaldurarekin, pieza hauek iraunkortasun eta egonkortasun termiko bikainak bermatzen dituzte. Erdieroaleen fabrikazioaren zorroztasunari aurre egiteko diseinatuta, zure ekipoen iraupenari eta fidagarritasunari laguntzen diote.
Osagaiak korapilatsu diseinatuta daude gas-fluxua optimizatzeko, hazkuntza epitaxialaren prozesuan materialen banaketa eta deposizio eraginkorra bermatuz. Horrek geruzen kalitate handiagoa lortzen du oble erdieroaleetan.

Aplikazioak:

Erdieroaleen fabrikazioko erreaktore epitaxialetarako egokitua.

Osagai kritikoak hazkunde epitaxial zehatza eta uniformea ​​lortzeko.

Handitu zure erdieroaleak fabrikatzeko gaitasunak gure bigarren erdiko piezak Epitaxial Prozesuan Behe ​​Bafleetarako. Konfiantza ezazu gure osagai erdi zilindrikoen berrikuntzan eta fidagarritasunean, CVD SiCz estalita, iraunkortasun handiagoa lortzeko. Mantendu erdieroaleen teknologiaren abangoardian fiting aurreratu hauekin, errendimendu optimoa eta geruza epitaxialaren kalitate koherentea bermatuz. Aukeratu beheko bafleetarako bigarren zatiak Prozesu epitaxialean, non zehaztasunak aurrerapenarekin bat egiten duen.