Txina SiC ostia Fabrikatzaileak, hornitzaileak, fabrika

Material erdieroalearen zati mehe bati oblea deitzen zaio, kristal bakarreko material oso puruz osatuta dagoena. Czochralski prozesuan, erdieroale monokristalino oso puru baten lingote zilindriko bat egiten da urtu batetik hazi-kristal bat ateraz.

Silizio karburoa (SiC) eta bere politipoak giza zibilizazioaren parte dira aspalditik; konposatu gogor eta egonkor honen interes teknikoa Cowless eta Acheson-ek 1885 eta 1892an gauzatu dute ehotzeko eta ebakitzeko helburuetarako, eta eskala handian fabrikatu da.

Propietate fisiko eta kimiko bikainek silizio karburoa (SiC) hautagai nabarmena bihurtzen dute hainbat aplikaziotarako, besteak beste, tenperatura altuko, potentzia handiko eta maiztasun handiko gailu eta optoelektronikoak, fusio-erreaktoreen egiturazko osagaia, gasez hoztutako estaldurarako materiala. fisio-erreaktoreak, eta Pu-ren transmutaziorako matrize inerte bat. SiC poli-mota desberdinak, hala nola 3C, 6H eta 4H, asko erabili dira. Ioien inplantazioa teknika kritikoa da Si-n oinarritutako gailuak ekoizteko dopanteak selektiboki sartzeko, p motako eta n motako SiC obleak fabrikatzeko.

Lingoteagero xerra egiten da silizio karburozko SiC obleak eratzeko.

Silizio-karburoaren materialaren propietateak

SiC obleen mota desberdinak

Hiru mota daude:n motako sic ostia, p motako sic ostiaetapurutasun handiko ostia erdi isolatzailea. Dopinak silizio-kristal batean ezpurutasunak sartzen dituen ioien inplantazioari egiten dio erreferentzia. Dopante hauei esker, kristalaren atomoek lotura ionikoak eratzen dituzte, garai batean berezko kristala estrintseko bihurtuz. Prozesu honek bi ezpurutasun mota sartzen ditu; N motakoa eta P motakoa. Bihurtzen den âmotaâ erreakzio kimikoa sortzeko erabilitako materialen araberakoa da. N motako eta P motako SiC oblearen arteko aldea dopingean erreakzio kimikoa sortzeko erabiltzen den lehen materiala da. Erabilitako materialaren arabera, kanpoko orbitalak bost edo hiru elektroi izango ditu negatiboki kargatuta (N motakoa) eta positiboki kargatuta (P motakoa).

N motako SiC obleak energia berriko ibilgailuetan, goi-tentsioko transmisioan eta azpiestazioetan, ekipamendu zurietan, abiadura handiko trenetan, motorretan, inbertsore fotovoltaikoetan, pultsuen elikadura-iturrietan eta abarretan erabiltzen dira nagusiki. Ekipoen energia-galera murrizteko abantailak dituzte, hobetuz. ekipoen fidagarritasuna, ekipoen tamaina murriztea eta ekipoen errendimendua hobetzea, eta abantaila ordezkaezinak dituzte potentzia-gailu elektronikoak egiteko.

Garbitasun handiko SiC oblea erdi isolatzailea potentzia handiko RF gailuen substratu gisa erabiltzen da batez ere.

Epitaxia - III-V Nitruroen Deposizioa

SiC, GaN, AlxGa1-xN eta InyGa1-yN geruza epitaxialak SiC substratuan edo zafiro substratuan.