Satelite plaka

Sitelite Satelite Plaka funtsezko ogitartekoa da hazkunde epituxial prozesuan, gordailu uniformea ​​eta prozesuaren eraginkortasun optimoa bermatuz. Goi-garbitasun handiko grafitotik estalita eta silikonazko geruza sendo batez estalita, plaka honek aparteko egonkortasun termikoa, erresistentzia kimikoa eta indar mekanikoa ematen ditu, errendimendu handiko erdieroaleen fabrikazioan ezinbesteko osagai gisa sendotuz.

Garbitasun handiko grafito oinarriarekin, satelite bidezko plaka eroankortasun termikoan eta egiturazko osotasunean nabarmentzen da. -ASic estalduraIraunkortasuna nabarmen indartzen du, tenperatura altuko erresistentzia, inertutasun kimikoa eta partikulen sorrera nabarmen murriztuz. Konbinazio indartsu honek plakak prozesatzeko baldintza gogorrak jasaten dituela ziurtatzen du, maila altuan koherentziaz egiten duen bitartean. Grafitoen oinarriak bero transferentzia eraginkorra errazten du, tenperatura uniformearen banaketa obran zehar ziurtatuz. Gainera, SIC gainazalak partikulen kaleratzea minimizatzen du, eta hori oso garrantzitsua da errendimendu handiko erdieroaleen fabrikazioa lortzeko.

AIXTron G5 + Sistemen integraziorako integraziorako diseinatua, satelite bidezko plakak wafer kokapen zehatza eta biraketa-saldoa bermatzen ditu, funtsezko baldintza termiko egonkorrak mantentzeko eta akats tasak murrizteko ezinbestekoa da. Plakaren konposizio aurreratuak bere zerbitzuaren bizitza zabaltzeaz gain, funtzionamendu kostuak nabarmen murrizten ditu eta fabrikazio produktibitatea hobetzen du.

Metalezko produktu kimiko ekologikoko gordailuan (MOCVD) prozesuan erabilita, satelite bidezko plaka funtsezkoa da ejitoxial geruza erdieroaleei buruzagiak hazteko. Gailu erdieroale aurreratuen produkzioan funtsezko eginkizuna du, LEDak, SIC eta GANak oinarritutako potentzia elektronika, fotoniko eta optoelektronikoen osagaiak eta maiztasun handiko RF gailuak barne hartzen ditu. Baldintza termiko egonkorrak ziurtatuz eta kutsadura minimizatuz, satelite bidezko plakak geruza epitaxialen hazkundea bermatzen du, wafer manipulazio hobetzea eta errendimendu tasa handiagoak lortuz. Bere diseinu optimizatuak Wafer laguntza modu eraginkorrean ziurtatzen du, akatsak murriztuz eta doitasunak bermatzeko erdieroaleen prozesamendu faseetan zehar.

Satelite Satelite Plaka AIXTron G5 + Epitaxia erreaktoreentzako ezinbesteko osagai gisa balio du, paregabeko iraunkortasuna, erresistentzia kimikoa eta errendimendu termikoa eskainiz. Ebaketa-puntako materialen konposizioa eta ingeniaritza kritikoa da erdieroaleen fabrikazio prozesuan, errendimendu handiko eta kalitate handiko ogiak ekoiztea bermatuz. Satelite bidezko plakan inbertitu zure erdieroalearen fabrikazioa altxatzeko eta bikaintasuna lortzeko hazkunde prozesu epituxialetan.