Siliziozko injektorea

Semicorex Silicon Injector purutasun ultra handiko osagaia da, presio baxuko lurrun kimikoen deposizio-sistemetan (LPCVD) gasa zehatz-mehatz emateko diseinatua, polisiliziozko eta film meheko deposiziorako. 9N-tik eraikia (% 99,9999999)purutasun handiko silizioa, injektore tubular fin honek garbitasun handiagoa, produktu kimikoekin bateragarritasuna eta egonkortasun termikoa eskaintzen ditu muturreko prozesu baldintzetan.

Erdieroaleen fabrikazioak integrazio maila altuagoetara eta kutsadura kontrol zorrotzagoetara eboluzionatzen jarraitzen duen heinean, deposizio-ganberako gas-hornikuntzako osagai guztiek ere lehen baino estandar altuagoak bete beharko dituzte. Semicorex Silizio Injektorea baldintza mota hauetarako bereziki garatu da: erreakzio-ganbera osoan gas-materialak modu egonkor eta uniformean helaraziz, filmaren kalitatea edo oblearen errendimendua negatiboki eragingo lukeen kutsadurarik sartu gabe.

Injektorea silizio monokristalino edo polikristalinoz fabrikatzen da prozesuaren eskakizunen arabera, eta materiala ezpurutasun metaliko, partikulatu eta ioniko baxua izateko diseinatuta dago. Honek LPCVD baldintza ultra-garbiekin bateragarritasuna eskaintzen du, non kutsadura aztarnak ere filmaren akats bat edo gailu baten hutsegite bat eragin dezakeen. Oinarrizko material gisa silizioa erabiltzeak ganberako injektorearen eta silizioko osagaien arteko material desegokia murrizten du, eta horrek nabarmen murrizten ditu partikulak sortzeko arriskuak edo erreakzio kimikoak erabileran eta tenperatura altuko funtzionamenduan.

Siliziozko injektorearen egitura tubular dedikatuak gasaren banaketa kontrolatua eta berdina ahalbidetzen du obleen karga uniforme baten gainean. Mikro-ingeniaritza-hobiek eta barruko gainazal leunek emari erreproduzigarriak bermatzen dituzte, filmaren lodiera koherentea eta labean jalkitze-tasa egonkorrak diren gas-dinamika laminarrekin batera. Silanoa (SiH₄), diklorosilanoa (SiH₂Cl₂) edo beste gas erreaktiboak diren ala ez, injektoreak kalitate oneko polisiliziozko film hazteko behar den errendimendu fidagarria eta zehaztasuna eskaintzen ditu.

Egonkortasun termiko bikaina dela eta, Semicorex Silicon Injector-ak 1250 °C-ko tenperaturak jasan ditzake eta deformazio, pitzadura edo deformazioaren beldurrik gabe kontrolatu daiteke tenperatura altuko LPCVD-ren ziklo anitzetan. Gainera, oxidazioarekiko eta inertetasun kimikoarekiko duen erresistentzia handiak iraupen luzeak eskaintzen ditu atmosfera oxidatzen, murrizten edo korrosiboan dagoen bitartean, mantentze-lanak murrizten ditu eta prozesuaren egonkortasuna sortzen du.

Injektore bakoitza puntako CNC mekanizazio eta leunketa erabiliz fabrikatzen da, mikrometro azpiko dimentsio-perdoiak eta gainazalean akabera ultra-leunak lortuz. Kalitate handiko gainazaleko akaberak gasaren turbulentzia murrizten du, partikula gutxi edo bat ere ez sortuz, aldi berean fluxu-ezaugarri koherenteak bermatzen dituen termiko eta presio aldaketa koherenteetan. Doitasunezko fabrikazioak zorrotz kontrolatutako prozesuak, emaitza fidagarriak erreproduzigarriak eta, beraz, ekipoen errendimendu koherentea bermatzen ditu.

Semicorex-ek neurrira egindako Siliziozko Injektoreak fabrikatzen ditu, luzera, diametro eta tokien konfigurazio pertsonalizatuetan eskuragarri. Egokitutako irtenbideak garatu daitezke gasen dispertsio-ereduak hobetzeko erreaktoreen geometria puntualetarako edo deposizio-errezetetarako. Injektore bakoitza ikuskatu eta garbitasuna egiaztatzen da erdieroaleen maila gorena ematekosiliziozko osagaiak.

Semicorex Silicon Injector-ek gaur egungo erdieroaleen fabrikazioan behar den zehaztasuna eta garbitasuna eskaintzen ditu. 9N purutasun ultra-altuko silizioa, mikra-mailako mekanizazio-zehaztasuna eta egonkortasun termiko eta kimiko handia sartzeak gasaren banaketa uniformea, partikulen sorrera txikiagoa eta aparteko fidagarritasuna eskaintzen ditu LPCVD polisilicioa metatzean.