Siliziozko karburoa ICP grabatzeko plaka

Siliziozko karburoa ICP grabatzeko plakaAguaforte-eragiketetan oblei euskarri egonkorra eta kokapen zehatza emateko eskumena da, bibrazioak edo desplazamenduak eragindako grabaketa-zehaztasunaren murrizketak eraginkortasunez saihestuz.

Silizio Karburoa ICP Etching Plate-k kudeaketa termikorako gaitasunak dituSIC zeramikaSiliziozko Karburoa ICP Etching Plate-k beroa azkar xahutzeko gaitasuna ematen dio, eta horrek piezaren tokiko gainberotzea ekiditen laguntzen du eta grabatze-tenperaturaren uniformetasuna bermatzen du, eta horrela grabatu kalitatea hobetzen du. SiC zeramikek hedapen termiko koefiziente baxua dute, eta horri esker, Silizio Karburoko ICP Etching Plakak dimentsio-egonkortasun ona mantentzen du eta piezaren desplazamendu edo deformazioa murrizteko hedapen termikoak eragindakoa.

Bere gogortasun- eta erresistentzia-propietate bikainetan oinarrituz, Silizio Karburoko ICP Etching Plate-k grabaketa-prozesuan aurkitutako tentsio mekanikoa eta plasma-inpaktua jasateko gaitasuna erakusten du, deformazio edo kalte minimoekin. Gaitasun horrek eraginkortasunez hobetzen du erdieroaleen gailuen etekina eta produkzio-eraginkortasuna.

Semicorex-ek erabiltzailearen erosotasuna lehenesten du, lehendik dauden ICP grabatze sistemekin ezin hobeto integratzen diren Silizio Karburoko ICP Etching Platearen diseinu pertsonalizatuak eskainiz eta hainbat konfiguraziorekin bateragarriak direnak. Horrek trantsizio leuna ahalbidetzen du, ekipamenduen fabrikatzaileentzako bertsio berritzeko irtenbide ezin hobea da.

Semicorex-ek erabiltzailearen erosotasuna lehenesten du, lehendik dauden ICP grabatze sistemekin ezin hobeto integratzen diren Silizio Karburoko ICP Etching Platearen diseinu pertsonalizatuak eskainiz eta hainbat konfiguraziorekin bateragarriak direnak. Horrek trantsizio leuna ahalbidetzen du, ekipamenduen fabrikatzaileentzako bertsio berritzeko irtenbide ezin hobea da.