Sic oxidazio hodia

SIC Oxidazio SICOREXE Hodi garbitasun handiko silizio karburoaren zeramikaz osatuta dago, oxidazio, difusio edo trukatzeko prozesuetarako diseinatutako zeramikazko zeramikak, normalean 1600 ºC-tan. SIC labe baten zati gisa, horizontalak edo bertikalak dira, oxidatzen ari diren bitartean oxidatzen ari diren bitartean. Oxidazio-hodiaren funtzioa da silikonazko karburoen (SIC) duten quermikoen funtzionamenduari buruzko giro garbia, uniformea eta egonkorra ematea, ordea, potentzia-gailuen erdieroaleen fabrikazioan, eta iraunkortasun prozesu potentzialaren irekiera gisa, oxidazio-hodeiak lehen erabilerarako bideragarri gisa jokatzen du. Kuartzo eta alumina hodiak denboran zehar desbideratze, devitrazio edo kimiko matxuraren bidez aurkitu ohi diren bitartean, silizio karburoak aparteko iraunkortasuna du shock erronka termikoen, jabetza mekanikoen hobekuntzaren eta inertutasun kimikoen aurka. Faktore horiek silizio karburoa ematen dute, fidagarritasun handiko ingurune altuetan oxidazio hodiak egiteko aukera bikain gisa.

Sinterizazio eta presio gabeko presio isostatiko eta prespiorik gabeko hotzak eratzeko modu aurreratuak erabiliz, SEMIrlekak mikrokripzio trinkoa, gasa eta homogeneoa duten SIC oxidazio hodiak sortzen ditu. Horrek indarra ematen du porositatea izateko arriskurik gabe, oxidazio prozesua kutsadurarik gabe jarraitzeko. SICek eroankortasun termiko handia du, banaketa termiko uniformea wafer karga eremura ahalbidetuz eta, beraz, ogiak edo akatsak sor ditzaketen gradiente termikoak murriztuz. Hodi azido, oinarrien eta gas erreaktiboekiko erresistentziak nahigabeko nahigabeko interakzio kimikoak saihesten ditu obra gainazalarekin eta labe ingurunean ere.

Ez da creep, ez da deformatzen. Hodia ez da izan behar produkzio ziklo batzuen ondoren, epe luzeko bizikleta termikoko inguruneak dira, bestela material txikiagoak suntsituko lituzkeenak. Beraz, ez da maiztasun altuko etenik funtzionamendu kostu baxuak esan nahi du, eta horrek prozesuaren fluxua mantentzen du etenik gabe. Horrek, gainera, kutsadura arriskuak murrizten ditu hurrengo belaunaldiko erdieroale gailuetan errendimendua erraz jaitsi dezaketenak. Zemorxak hodien dimentsio estandarrak eta guztiz pertsonalizatuak ekoizten ditu, erabilitako labeen plataforma eta errezeta egiteko. Barruko eta kanpoko diametroa, luzera, hormako lodiera eta gainazalaren akabera behar duten parametroak behar dira, behar termiko eta mekaniko espezifikoei aurre egiteko egokitzapena eska diezaieke; Laborategiko eskalako I + Gko labeetatik fabrikazio-lerro handietara arte, hodiak mekanizatu behar ditu mekanizatu, garbiketa eta ikuskapena errendimendua bermatzeko.

Kalitatearen kontrola dimentsioko kontrolekin, materialen dentsitate probekin eta ziklo termiko fidagarritasun balioztatzearekin hasten da SIC oxidazio hodiko bakoitzerako. Material trazabilitate sistema sendo batek produktua bere hauts gordinaren etapatik azken ikuskapenera erregistratzen du. Kalitate mota horrek bezeroei esku egonkorra ematen die gure SIC oxidazio hodien epe luzerako eta erreproduktibitatean.

Aukeratu erdibide eta lortu bikotekidea zeramikazko ingeniaritza aurreratua prozesu zabaleko kontrolarekin eta laguntza teknikoarekin batera uztartzen dituen hornitzaile batean, hasieratik elkarrekin lan eginez. Labearen inguruko gunea, prozesuen eskakizunak eta integrazio erronkak ezagutuko ditugu, zure prozesuaren emaitzak hobetzeko eta tresnak hobetzeko irtenbide pertsonalizatuak eskaintzeko.

SIC oxidazio hodiko semicoRex-ek errendimendu termiko onena ematen du egonkortasun kimikoarekin eta indar mekanikoarekin. Tenperatura handiko sic prozesatzeko sistemaren bihotza bihurtzen da, oxidazioan zehar ingurune termiko uniformea eskainiz eta material erdieroale aurreratuak barneratzen ditu. Labearen osagaiak fidagarriak, garbiak eta iraunkorrak izan behar duten fabrikatzaileentzat, semicoRex ezagutzak eta esperientziaren laguntzarekin, baita onena ez da ezer gutxiagorekin emandako estandar gisa.