SiC Berogailu Elementua Berogailu Filament SiC Hagaxkak

SiC Berokuntza Elementu Berogailu Filament SiC Hagaxkak berokuntza-teknologiaren gailurra adierazten du, erdieroaleen fabrikazio-prozesuaren eskakizun zorrotzei erantzuteko zorrotz diseinatuta. Elementu berogailu berritzaile honek grafitoaren aparteko propietate termikoak eta silizio karburoaren (SiC) estalduraren errendimendu handiko atributuak konbinatzen ditu, erdieroaleen fabrikazio zehatz eta eraginkorrerako ezinbesteko tresna da.

Aplikazioak:

Semicorex SiC Berogailu Elementu Berogailu Filament SiC Hagaxkek ezinbesteko erabilgarritasuna aurkitzen dute erdieroaleen fabrikazio prozesu kritikoetan:

Lurrun Kimikoen Deposizioa (CVD): Film meheen deposizio kontrolatua ahalbidetzen du substratuetan, ezinbestekoa zirkuitu-eredu korapilatsuak eta gailu-egiturak sortzeko.

Anealing eta Hedapena: tratamendu termiko kontrolatua erraztea materialaren propietateak hobetzeko eta substratu erdieroaleen barruan dopin-profil zehatzak sortzeko.

Oxidazioa eta grabatua: gailuak isolatzeko, interkonexioaren eraketa eta gainazala aldatzeko ezinbestekoak diren oxidazio eta grabatu prozesu kontrolatuak onartzen ditu.

Kristalaren hazkundea: hazkuntza epitaxialerako ingurune termiko aproposa eskaintzea, eta, ondorioz, kalitate handiko geruza kristalinoak eratzen dira, kristal-orientazio definituekin.