SiC Fin

Semicorex SiC Fin errendimendu handiko osagaia dasilizio karburozko zeramika, erdieroaleen epitaxia eta grabaketa sistemetan erabiltzeko diseinatuta dago. Disko formako pieza zirkular gisa diseinatua, diametro ezberdinetako zulo ezberdinekin, SiC Fin-a osagai kritikoa da fluxu-eredua egiteko materialen eta gasen edo isuri likidoen ihesak kudeatzeko tenperatura altuko edo plasma prozesatu bitartean. Egiturazko errendimendua, korrosioarekiko erresistentzia bikaina eta egonkortasun termiko handia direla eta, SiC Fin funtsezkoa da erdieroaleen fabrikazio aurreraturako.

SiC Fin purutasun handikoa dasilizio karburoahautsa konformazio eta sinterizazio prozesu aurreratuak erabiliz. Horrela, erresistentzia mekaniko eta egonkortasun bikainak ditu baldintza termiko eta kimiko handietan. Siliziozko karburoaren propietate fisiko bereziek, hala nola, gogortasun handia, hedapen termiko baxua eta inertetasun kimiko bikainari esker, Fina tenperatura altuko plasma edo gas erreaktiboen inguruneetan egiturazko osagaia izatea ahalbidetzen dute, EPI eta grabaketa prozesuen ezaugarriak direnak.

Osagaiaren disko-egiturak, zehatz-mehatz zulatutako zuloekin osatua, prozesu-ganberetan zehar gasen eta likidoen fluxu kontrolatuak ahalbidetzen ditu. Aplikazioaren arabera, zuloak konfiguratu daitezke azpiproduktuen edo drainatzearen fluxua kudeatzeko, obleen prozesuan ingurune garbi eta egonkorra lortzeko. Epitaxia aplikazio batean, adibidez, SiC Fin-ak prozesuko gasak edo kondentsatu-fluxuak zuzentzen lagun dezake, horrela filmaren uniformetasuna hobetuz eta partikulen kutsadura gutxituz. Etch tresnetan, eraginkorra da espezie erreaktiboak eta azpiproduktu likidoak kentzeko modu seguruan eta eraginkorrean, ganberako osagai ahulak degradazio kimikotik babesten dituztenak.

Semicorex SiC Fin bakoitza tolerantzia oso estuekin fabrikatuta dago eta leundua dago gainazaleko lautasun bikaina eta dimentsioko zehaztasuna emateko. Fabrikazio-zehaztasun honek errendimendu fidagarria bermatzen du sistema korapilatsuetan integratzen denean eta funtzionaltasun koherentea mantentzen du funtzionamendu denbora luzez. SiC Fin erreaktoreen diseinu guztiekin bateragarria da eta neurrira fabrikatu daiteke diametroa, lodiera eta zuloen eredua bezeroen beharrei erantzuteko. Semicorex-ek diseinu pertsonalizatuak eskain ditzake errendimendua optimizatzeko prozesuaren aldagaietarako, hala nola emaria, ganberaren geometria eta tenperatura.

Funtzio anitzeko funtzionaltasunaz gain, SiC Fin-ek iraupen eta iraupen bikainak ditu beste materialen aldean. Oso erresistentea da oxidazioari, plasma-higadurari eta korrosio kimikoari, eta horrek zure piezen ordezko maiztasuna murrizten du eta sistemaren geldialdi-denbora murrizten du. Gainera, silizio-karburoaren eroankortasun termikoak beroa xahutzeko ahalmena ahalbidetzen du gailuko gradiente termikoak kudeatzeko, tenperatura azkarreko zikloetan nahi ez diren deformazioak edo pitzadurak saihestuz.

Semicorex-ek aurreratua erabiltzen duzeramikaprozesatzeko eta CVD estaldura gaitasunak ekoitzitako SiC Finaren garbitasun eta koherentzia handiena emateko. SiC Fin bakoitza dentsitatea, mikroegituraren uniformetasuna eta gainazalaren perfekzioa ere ikuskatzen dira, erdieroaleen industriaren eskakizun zorrotzak betetzen dituela ziurtatzeko. Honen ondorioz, osotasun mekanikoa eta sendotasuna duen osagai bat lortzen da epe luzerako funtzionamendu egonkor eta muturreko inguruneetan.

Semicorex SiC Fin punta-puntako materialen zientzia eta ingeniaritza teknologiaren emaitza da. Ihes- eta likido-fluxu eraginkorrak fabrikatzen ez ezik, epitaxia eta grabaketa-sistema osoaren garbitasunari eta fidagarritasunari laguntzen dio. Erresistentzia mekanikoa, egonkortasun termikoa eta korrosioaren iraupena konbinatzen ditu erdieroaleen prozesatzeko aplikazioetarako esperientzia koherenteagoa eskaintzeko.