Litografia Makina Hezurdura

Semicorex litografia-makinaren hezurdurak materialaren propietate apartak konbinatzen ditu erdieroaleen fabrikazioaren eskakizun zorrotzei erantzuteko. SiC-k zurruntasun eta zurruntasun handiagoa eskaintzen du, tentsio mekanikoan deformazio minimoa bermatuz. Hau funtsezkoa da litografia-prozesuan lerrokadura eta zehaztasuna mantentzeko.

Silizio karburoak egonkortasun termiko bikaina erakusten du, tenperatura altuak jasaten dituen hedapen edo uzkurtze nabarmenik gabe. Litografia-makinaren eskeletoaren egonkortasun hau ezinbestekoa da tenperatura aldakorra duten inguruneetan errendimendu eta zehaztasun koherentea mantentzeko. SiC-ren hedapen termikoaren koefiziente baxuak dimentsio-aldaketak minimizatzen laguntzen du, litografia-makinaren hezurdura egonkorra eta zehatza izaten jarraitzen duela bermatuz ziklo termikoan zehar.

Silizio-karburoan oinarritutako litografia-makinaren hezurdura fotolitografia-ekipo aurreratuetan erabiltzeko diseinatuta dago, batez ere erdieroaleen industrian. Bere eginkizuna sistema optikoak, etapak eta beste doitasun-tresna batzuk bezalako osagai kritikoak onartzen dituen marko sendo eta egonkorra eskaintzea da.

Litografia-makinaren hezurdurarako Silizio Karburoa erabiltzeak zurruntasun handiko, egonkortasun termikoaren, erresistentzia kimikoaren eta indar arinaren konbinazioa dakar. Atributu hauek aukera ezin hobea bihurtzen dute gailu erdieroaleen fabrikazioan behar den zehaztasuna eta fidagarritasuna bermatzeko.