CVD SiC eraztun solidoak

Semicorex solidoaCVD SiCeraztunak normalean grabatzeko ekipoen erreakzio-ganberen barruan muntatzen dira, txorten elektrostatikoak inguratuz, prozesu-hesi eta energia-gida gisa balio dezaten. Plasma ganbararen barruan kontzentratu dezakete oblearen inguruan eta kanporako plasma difusioa ekiditen dute, horrela grabaketa prozesu zehatzerako energia-eremu egokia eskainiz. Energia-eremu uniforme eta egonkor honek obleen akatsak, prozesu-noraeza eta gailu erdieroaleen errendimendu-galera bezalako arriskuak eraginkortasunez arin ditzake oblearen ertzean energia banaketa irregularrak eta plasma distortsioak.

Abantaila material bikainak

Semicorex solido CVD SiC eraztunak purutasun handiko CVD SiCz fabrikatzen dira, material abantaila bikainak eskaintzen dituzte erdieroaleen grabaketa inguruneetan garbitasun handiko eta korrosioarekiko erresistentzia handiko baldintza zorrotzak betetzeko.

1. Garbitasun handia

Semicorex CVD SiC eraztun solidoen purutasuna % 99,9999tik gorakoa izan daiteke, eta horrek esan nahi du eraztunak barneko ezpurutasunik gabe daudela. Materialaren garbitasun aparteko honek erdieroaleen grabaketa prozesuetan ezpurutasun askapenetik erdieroaleen obleen eta prozesu-ganberen nahigabeko kutsadura saihesten du.

2. Korrosioarekiko erresistentzia handia

SemicorexCVD SiC eraztun solidoakEgituraren osotasuna eta errendimendu-egonkortasuna mantendu ditzake azido, alkali eta plasma indartsuen eraginpean egonda ere CVD SiC-ren korrosioarekiko erresistentzia handia dela eta, eta grabaketa prozesatzeko ingurune gogorretarako soluzio ezin hobeak dira.

3. Kudeaketa termikoaren errendimendu fidagarria

CVD SiC-k eroankortasun termiko handia eta hedapen termiko gutxieneko koefizientea ditu, eta Semicorex CVD SiC eraztun solidoek bero xahutze azkarra lortzen dute eta dimentsio-egonkortasun bikaina mantentzen dute funtzionamenduan zehar.

4. Aparteko erresistentzia uniformetasuna

Semicorex CVD SiC eraztun solidoek erresistentzia-uniformitate paregabea ematen dute RRG <% 5arekin.

Erresistentzia-tarteak: Low Res. (<0,02 Ω·cm), Erdi Erres. (0,2–25 Ω·cm), Erres. (>100 Ω·cm).

Kalitate-kontrol zehatza

Semicorex CVD SiC eraztun solidoak estandar zorrotzen arabera prozesatu eta ikuskatzen dira Erdieroaleen eta mikroelektronikaren eremuen zehaztasun eta kalitate eskakizun zorrotzak betetzeko.

Gainazalaren tratamendua: leuntzeko doitasuna Ra < 0,1µm da; Artezketa finaren zehaztasuna Ra > 0,1 µm da

Prozesatzeko doitasuna ≤ 0,03 mm-ren barruan kontrolatzen da

Kalitatearen ikuskapena: Semicorex solido CVD SiC eraztunek dimentsioko neurketa, erresistentzia-probak eta ikuskapen-ikuskapena egingo dituzte produktua txirbil, marradura, pitzadura, orban eta bestelako akatsik gabe ziurtatzeko.