Epitaxia eta MOCVD bezalako obleak manipulatzeko prozesuei dagokienez, Semicorex-en Tenperatura handiko SiC estaldura Plasma Etch Chambers da aukerarik onena. Gure garraiolariek bero-erresistentzia handiagoa eskaintzen dute, baita uniformetasun termikoa ere eta erresistentzia kimiko iraunkorra gure SiC kristalezko estaldurari esker.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaBere eroankortasun termiko eta bero banaketaren propietate apartekoekin, Semicorex Barrel Structure for Semicorex Epitaxial Reactor aukera ezin hobea da LPE prozesuetan eta erdieroaleen fabrikazioko beste aplikazioetan erabiltzeko. Bere purutasun handiko SiC estaldurak babes handiagoa eskaintzen du tenperatura altuko eta ingurune korrosiboetan.
Irakurri gehiagoBidali kontsulta