Semicorex-en ICP grabatzeko obleen euskarria irtenbide ezin hobea da tenperatura altuko obleak manipulatzeko prozesuetarako, hala nola epitaxia eta MOCVD. 1600 °C arteko tenperatura altuko oxidazio-erresistentzia egonkorrarekin, gure eramaileek profil termikoak, gas-fluxu laminarraren ereduak bermatzen dituzte eta kutsadura edo ezpurutasunen hedapena ekiditen dute.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaEroankortasun termikoa eta beroa banatzeko propietate paregabeak dituen grafito suszeptore bat behar baduzu, ez begiratu gehiago Semicorex Inductively Heated Barrel Epi Sistema baino. Bere purutasun handiko SiC estaldurak babes handiagoa eskaintzen du tenperatura altuko eta ingurune korrosiboetan, erdieroaleen fabrikazio aplikazioetan erabiltzeko aukera aproposa bihurtuz.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaBere eroankortasun termiko eta bero banaketaren propietate apartekoekin, Semicorex Barrel Structure for Semicorex Epitaxial Reactor aukera ezin hobea da LPE prozesuetan eta erdieroaleen fabrikazioko beste aplikazioetan erabiltzeko. Bere purutasun handiko SiC estaldurak babes handiagoa eskaintzen du tenperatura altuko eta ingurune korrosiboetan.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaSemicorex Silizio-karburoarekin estalitako grafitozko barrila aukera ezin hobea da bero eta korrosioarekiko erresistentzia handia behar duten erdieroaleen fabrikazio aplikazioetarako. Bere eroankortasun termikoaren eta beroaren banaketaren propietate apartak LPE prozesuetan eta tenperatura altuko beste ingurune batzuetan erabiltzeko aproposa da.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaSemicorex Silicon Carbide Coated Barrel Susceptor purutasun handiko SiCz estalitako kalitate handiko grafitozko produktua da, bero eta korrosioarekiko erresistentzia paregabea eskaintzen duena. Erdieroaleen fabrikazio industrian LPE aplikazioetarako bereziki diseinatuta dago.
Irakurri gehiagoBidali kontsulta