Semicorex-en SiC-Coated ICP osagaia tenperatura altuko obleak manipulatzeko prozesuetarako bereziki diseinatuta dago, hala nola epitaxia eta MOCVD. SiC kristalezko estaldura fin batekin, gure eramaileek beroarekiko erresistentzia handiagoa eskaintzen dute, baita uniformetasun termikoa ere eta erresistentzia kimiko iraunkorra.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaEpitaxia eta MOCVD bezalako obleak manipulatzeko prozesuei dagokienez, Semicorex-en Tenperatura handiko SiC estaldura Plasma Etch Chambers da aukerarik onena. Gure garraiolariek bero-erresistentzia handiagoa eskaintzen dute, baita uniformetasun termikoa ere eta erresistentzia kimiko iraunkorra gure SiC kristalezko estaldurari esker.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaSemicorex-en PSS Handling Carrier for Wafer Transfer egiteko epitaxia-ekipamenduen aplikazio zorrotzenetarako diseinatuta dago. Gure grafito ultrapuruak ingurune gogorrak, tenperatura altuak eta garbiketa kimiko gogorrak jasan ditzake. SiC estalitako eramaileak beroa banatzeko propietate bikainak ditu, eroankortasun termiko handia eta errentagarria da. Gure produktuak asko erabiltzen dira Europako eta Amerikako merkatu askotan, eta zure epe luzerako bazkide bihurtzea espero dugu Txinan.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaSemicorex SiC Coated Epitaxial Reactor Barrel purutasun handiko SiCz estalitako kalitate goreneko grafitozko produktua da. Bere dentsitate bikaina eta eroankortasun termikoa aukera ezin hobea da LPE prozesuetan erabiltzeko, beroaren banaketa eta babes bikaina eskaintzen du ingurune korrosiboetan eta tenperatura altukoetan.
Irakurri gehiagoBidali kontsulta