Semicorex-en ICP Plasma Etching Tray tenperatura altuko obleak manipulatzeko prozesuetarako bereziki diseinatuta dago, hala nola epitaxia eta MOCVD. 1600 °C arteko tenperatura altuko oxidazio-erresistentzia egonkorrarekin, gure eramaileek profil termikoak, gas-fluxu-eredu laminarrak eskaintzen dituzte eta kutsadura edo ezpurutasunen hedapena ekiditen dute.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaSemicorex-en ICP Etching Carrier Plate soluzio ezin hobea da obleak manipulatzeko eta film meheen deposizio prozesuetarako. Gure produktuak beroarekiko eta korrosioarekiko erresistentzia handiagoa eskaintzen du, baita uniformetasun termikoa ere eta gas-fluxu laminarraren ereduak. Gainazal garbi eta leunarekin, gure eramailea ezin hobea da obleak garbiak maneiatzeko.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaTenperatura altuko eta korrosiboen ingurune zorrotzenetan ere fidagarri eta koherentean funtziona dezakeen grafito susceptor bat behar baduzu, fase likidoko epitaxiarako Semicorex Barrel Susceptor aukera ezin hobea da. Bere siliziozko karburozko estaldurak eroankortasun termiko eta bero banaketa bikainak eskaintzen ditu, erdieroaleen fabrikazio aplikazioetan errendimendu aparta bermatuz.
Irakurri gehiagoBidali kontsulta