Epitaxia eta MOCVD bezalako obleak manipulatzeko prozesuei dagokienez, Semicorex-en Tenperatura handiko SiC estaldura Plasma Etch Chambers da aukerarik onena. Gure garraiolariek bero-erresistentzia handiagoa eskaintzen dute, baita uniformetasun termikoa ere eta erresistentzia kimiko iraunkorra gure SiC kristalezko estaldurari esker.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaErdieroaleen fabrikazioko aplikazioetan erabiltzeko errendimendu handiko grafitoaren susceptor bat behar baduzu, Semicorex Silicon Epitaxial Deposition Barril Reactor aukera ezin hobea da. Bere purutasun handiko SiC estaldurak eta aparteko eroankortasun termikoak babes eta bero banaketa propietate bikainak eskaintzen ditu, ingurune zailenetan ere errendimendu fidagarri eta koherentea lortzeko.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaBere eroankortasun termiko eta bero banaketaren propietate apartekoekin, Semicorex Barrel Structure for Semicorex Epitaxial Reactor aukera ezin hobea da LPE prozesuetan eta erdieroaleen fabrikazioko beste aplikazioetan erabiltzeko. Bere purutasun handiko SiC estaldurak babes handiagoa eskaintzen du tenperatura altuko eta ingurune korrosiboetan.
Irakurri gehiagoBidali kontsulta