Produktuak

View as

ICP Plasma grabatzeko erretilua

Semicorex-en ICP Plasma Etching Tray tenperatura altuko obleak manipulatzeko prozesuetarako bereziki diseinatuta dago, hala nola epitaxia eta MOCVD. 1600 °C arteko tenperatura altuko oxidazio-erresistentzia egonkorrarekin, gure eramaileek profil termikoak, gas-fluxu-eredu laminarrak eskaintzen dituzte eta kutsadura edo ezpurutasunen hedapena ekiditen dute.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

ICP Plasma grabatzeko sistema

Semicorex-en SiC estalitako eramailea ICP Plasma Etching System-rako soluzio fidagarria eta errentagarria da tenperatura altuko obleak manipulatzeko prozesuetarako, esate baterako, epitaxia eta MOCVD. Gure eramaileek SiC kristalezko estaldura fina dute, beroarekiko erresistentzia handiagoa, baita uniformetasun termikoa ere eta erresistentzia kimiko iraunkorra eskaintzen duena.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

Induktiboki Akoplatutako Plasma (ICP)

Semicorex-en silizio-karburoz estalitako suszeptorea Induktiboki Akoplatutako Plasmarako (ICP) bereziki diseinatuta dago tenperatura altuko obleak manipulatzeko prozesuetarako, hala nola epitaxia eta MOCVD. 1600 °C arteko tenperatura altuko oxidazio-erresistentzia egonkor batekin, gure eramaileek profil termikoak, gas-fluxu-eredu laminarrak bermatzen dituzte eta kutsadura edo ezpurutasunen hedapena ekiditen dute.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

ICP Etching Wafer euskarria

Semicorex-en ICP grabatzeko obleen euskarria irtenbide ezin hobea da tenperatura altuko obleak manipulatzeko prozesuetarako, hala nola epitaxia eta MOCVD. 1600 °C arteko tenperatura altuko oxidazio-erresistentzia egonkorrarekin, gure eramaileek profil termikoak, gas-fluxu laminarraren ereduak bermatzen dituzte eta kutsadura edo ezpurutasunen hedapena ekiditen dute.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

ICP Aguaforteko Plaka Eramailea

Semicorex-en ICP Etching Carrier Plate soluzio ezin hobea da obleak manipulatzeko eta film meheen deposizio prozesuetarako. Gure produktuak beroarekiko eta korrosioarekiko erresistentzia handiagoa eskaintzen du, baita uniformetasun termikoa ere eta gas-fluxu laminarraren ereduak. Gainazal garbi eta leunarekin, gure eramailea ezin hobea da obleak garbiak maneiatzeko.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

ICP Aguaforterako Prozesurako obleen euskarria

Semicorex-en obleen euskarria ICP grabatu prozesurako aukera ezin hobea da obleak manipulatzeko eta film meheko deposizio prozesuetarako. Gure produktuak beroarekiko eta korrosioarekiko erresistentzia handia du, baita uniformetasun termikoa ere eta gas-fluxu laminarraren eredu optimoak ditu emaitza koherente eta fidagarriak lortzeko.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

<...58 59 60 61 62...67 >