Euskal
Hasiera > Berriak

Berriak

AI eta fisikaren fusioa: CVD berrikuntza teknologikoa Nobel Sariaren atzean

AI eta fisikaren fusioa: CVD berrikuntza teknologikoa Nobel Sariaren atzean

2024ko Fisikako Nobel Saria iragartzeak aurrekaririk gabeko arreta ekarri du adimen artifizialaren alorrean.

Irakurri gehiago
Erdieroaleen dopatze-prozesua

Erdieroaleen dopatze-prozesua

Material erdieroaleen propietate berezietako bat da haien eroankortasuna, baita eroankortasun mota ere (N motakoa edo P motakoa), doping izeneko prozesu baten bidez sortu eta kontrolatu daitezkeela. Honek materialan ezpurutasun espezializatuak sartzen ditu, dopatzaileak izenez ezagutzen direnak, obl......

Irakurri gehiago
PECVD Prozesua

PECVD Prozesua

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) txiparen fabrikazioan oso erabilia den teknologia da. Plasma barruko elektroien energia zinetikoa erabiltzen du gas-fasean erreakzio kimikoak aktibatzeko, eta horrela film meheen deposizioa lortzen da.

Irakurri gehiago
Akatsen detekzioa siliziozko karburoko obleen prozesamenduan

Akatsen detekzioa siliziozko karburoko obleen prozesamenduan

SiC substratuak silizio karburoaren industrian osagai erabakigarrienak dira, bere balioaren ia % 50 hartzen baitute. SiC substraturik gabe, ezinezkoa da SiC gailuak fabrikatzea, funtsezko material oinarri bihurtuz.

Irakurri gehiago
Zer da Dummy Wafer

Zer da Dummy Wafer

Dummy Wafer bat ostia fabrikatzeko prozesuan makina ekipamendua betetzeko erabiltzen den ostia espezializatu bat da.

Irakurri gehiago
GaN aplikazioa

GaN aplikazioa

Galio nitruroa (GaN) mota asko dago, eta silizioan oinarritutako GaN da eztabaidatuena. Teknologia honek GaN materialak zuzenean siliziozko substratu batean hazten ditu.

Irakurri gehiago
<...56789...37>
Sakatu Sartu bilaketa edo Esc ixteko
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept