MOCVD SiC estalitako grafito susceptor

Semicorex MOCVD SiC Coated Graphite Susceptor metal-organiko kimiko lurrun-deposizio prozesuan erabiltzen den osagai aurreratu eta espezializatua da, erdieroaleak, gailu optoelektronikoak eta beste material aurreratu batzuk ekoizteko teknika erabakigarria. Susceptor honek funtsezko zeregina du film meheen eta geruza epitaxialen hazkuntza errazteko zehaztasun eta eraginkortasunarekin.

MOCVD SiC Coated Graphite Susceptor kalitate handiko grafitoz egina dago, bere egonkortasun termikoagatik eta eroankortasun termiko bikainagatik aukeratua. Grafitoaren berezko propietateek material ezin hobea bihurtzen dute MOCVD erreaktore baten baldintza zorrotzei aurre egiteko. Bere errendimendua hobetzeko eta bere bizi-iraupena luzatzeko, grafitoaren suszeptorea silizio karburozko (SiC) geruza batez estalita dago.

MOCVD SiC Coated Graphite Susceptor erdieroaleen fabrikazioaren alorrean funtsezko osagaia da, abangoardiako materialen eta doitasun ingeniaritzaren fusioa jasotzen duena. Bere iraunkortasuna, eraginkortasun termikoa eta babes-gaitasunek ezinbesteko elementu bihurtzen dute kalitate handiko film mehe eta erreproduzigarriak eta geruza epitaxialak gailu elektroniko eta optoelektroniko aurreratuak fabrikatzeko ezinbestekoak diren.