Hiru petaloko grafitozko arragoa

Semicorex Three-petal Graphite Crucible (hiru zati edo segmentatutako grafito arragoa bezala ere ezagutzen dena) ingeniaritza aurrerapen garrantzitsua adierazten du material erdieroale aurreratuen prozesamendu termikoan. Garbitasun oso handiko grafito isostatikoz mekanizatuta, ontzi espezializatu hau arreta handiz diseinatuta dago hurrengo belaunaldiko kristalen hazkundearen muturreko ingurune termiko eta kimikoei aurre egiteko, bereziki Silizio Karburoa (SiC) sublimaziorako Lurrun Garraio Fisikoaren (PVT) eta silizio monokristalinoaren lingoteen ekoizpenaren bidez.

Pieza bakarreko arrago monolitiko tradizionalak ez bezala, hiru petalo segmentatutako arkitektura berritzaileak erliebe mekaniko handiagoa eskaintzen du, arragoa uniformeki hedatu eta uzkurtzeko aukera ematen du ziklo termiko azkarrean, hazten den kristal-matrizea pitzatu edo estresatu gabe.

Oinarrizko produktuaren abantailak eta ingeniaritza-bikaintasuna

1. Estresa Arintzeko Hiru Petaloko Arkitektura

Hiru segmentu zatituaren diseinua industriako min komun bat konpontzeko diseinatuta dago:dilatazio termikoaren desegokia. Erdieroaleen kristalizazioaren berotze eta hozte muturreko faseetan, arrago monolitikoek sarritan tentsio lokalizatua izaten dute, deformazio estrukturala edo hutsegite goiztiarra eragiten duena. Elkarri lotuta dauden hiru petalo-egiturak flexio mikroskopiko kontrolatua eskaintzen du, estres termikoa nabarmen murrizten du, arragoa pitzatzeko arriskua ezabatuz eta osagaiaren funtzionamendu-bizitza luzatuz.

2. Garbitasun ultra handiko karbono-substratua

Kutsadura errendimendu handiko erdieroaleen hazkundearen azken etsaia da. Gure hiru petaloko arragoak arazteko prozesu kimiko eta termiko zorrotzak jasaten dituzte errautsak murrizteko eta aztarnazko metalen edukia.5 ppm baino gutxiago. Honek labearen barruan aparteko ingurune garbia bermatzen du, ezpurutasun lurrunkorren hedapena saihestuz urtze-fasean edo lurrun-fasean, eta azken oblearen txiparen osotasun elektrikoa mantenduz.

3. Aparteko profil termikoaren uniformetasuna

Kristal bakarreko egitura akatsik gabekoa lortzeko gradiente termikoen kontrol zehatza behar da. Aukeratutako grafito isostatikoaren eroankortasun termiko altuak bero-transferentzia azkarra eta uniformea ​​bermatzen du hiru segmentuetan zehar. Profil termiko uniforme honek lokalizatutako "puntu beroak" ezabatzen ditu, solidotze-fronte guztiz laua sustatuz eta hazten ari den kristalezko lingotean dislokazioak bezalako akatsak gutxituz.

4. Gainazaleko estaldura aurreratuak (aukerakoa)

SiC kristalen tiraketaren eskakizun zorrotzei erantzuteko (tenperaturak 2000 ℃ gainditzen dituzten ingurune oso korrosiboetan), arrago hauek espezialitateekin hobetu daitezke.Tantalo Karburoa (TaC)edoSilizio karburoa (SiC)Lurrun-deposizio kimikoa (CVD) estaldurak. Babes-hesi honek gasaren higadura erreaktiboaren aurkako erresistentzia paregabea eskaintzen du eta karbonoaren gasa kanporatzea ekiditen du.

Lehen mailako aplikazioak

Gure hiru petaloko grafitozko arragoa oso zabalduta dago industria-gune beroetan aurreratuetan:

Silizio Karburoa (SiC) Crystal Growth: ezinbestekoa da ibilgailu elektrikoetan (EVs) eta energia-sare berdeetan erabiltzen den banda zabaleko potentzia-elektronikarako.

Czochralski (CZ) eta PVT metodoak: aproposa, sendotasun handiko kanpoko euskarri gisa edo zuzeneko edukiontzi gisa, tenperatura altuko indukzio edo erresistentzia labeetan.

Erdieroale konposatuen sintesia: hurrengo belaunaldiko substratu-materialen purutasun handiko prozesatzeko egokia.

Erdieroaleen industriarako materialen irtenbide aurreratuen hornitzaile nagusi gisa, gure fabrikazio-prozesuak guztiz kontrolatzen dira sistema guztiz automatizatuen bidez. Hiru petaloko grafitozko arragoa bakoitzari suntsipenik gabeko proba zorrotzak, koordenatuen neurketa-ikuskapenak eta garbitasun-balioztapen zorrotzak egiten ditu. Errendimendu termiko aurreikusgarria eta oso errepikagarria eskaintzen dugu, erdieroaleen fabrikak etekina maximizatzeko, geldialdi-denbora murrizteko eta jabetza-kostu orokorra murrizteko.