TAC estaldura erdi-ilargi zatia

TAC zeramikak 3880 ºC-ko urtze-puntua du, gogortasun handia (Mohs gogortasuna 9-10), eroankortasun termiko handia (22W · M-1 · K-1), tolestura indar handia (340-400MPA) eta hedapen termikoko koefiziente txikia (6,6 × 10-6k-1). Egonkortasun termokimiko bikaina eta propietate fisiko bikainak ere erakusten dituzte eta bateragarritasun kimiko eta mekaniko onak dituzte grafito eta C / C konposatuekin. Hori dela eta, TAC estaldurak oso erabiliak dira babeserako aeroespazialaren, kristal bakarreko hazkundea, energia elektronika eta gailu medikoak.

TAC estalitako grafitoak grafito biluzi edo sic-estalitako grafitoa baino korrosio kimikoen erresistentzia hobea du, 2600 ° -ko tenperatura altuetan erabil daiteke eta ez du metalezko elementu askorekin erreakzionatzen. Hirugarren belaunaldiko erdieroaleen erdieroaleen hazkunde eta obrazio eszenatokietan estaldurarik onena da eta prozesuan tenperaturaren eta ezpurutasunen kontrola nabarmen hobetu dezake eta kalitate handiko silizio karburoen ogiak eta erlazionatutako ogiak erlazionatuak prestatu ditzakete. Bereziki egokia da GAN edo Aln kristal bakarrekoak hazteko MOCVD ekipamenduarekin eta SIC kristal bakarrekoak hazten ari dira PVT ekipoekin. Handiko kristal bakarreko kalitatea nabarmen hobetzen da.

Produktu hau konponbide aproposa da fabrikatzaileei zehaztasun, eraginkortasun eta iraunkortasun lehentasunez lehentasunezko prozesuetan lehenestea. Konfiantza erdieroalearen industriaren eboluzionatutako beharrak asetzeko diseinatutako errendimendu handiko irtenbideetarako.