TaC-Estaldura arragoa

Semicorex TaC-Coating Cruciblearen abantaila nagusiak erdieroaleen kristalen hazkundean:

Garbitasun ultra-altua Kristalaren kalitatea lortzeko:Garbitasun handiko grafito isostatikoa eta kimikoki inertea den TaC estalduraren konbinazioak ezpurutasunak urtuta isurtzeko arriskua murrizten du. Hau funtsezkoa da errendimendu handiko gailu erdieroaleek behar duten aparteko purutasuna lortzeko.

Tenperaturaren kontrol zehatza kristalen uniformetasunerako:Grafito isostatikoen propietate termiko uniformeek, TaC estaldurak hobetuta, tenperaturaren kontrol zehatza ahalbidetzen dute urtu osoan. TaC-Coating Crucible-ren uniformetasun hori funtsezkoa da kristalizazio-prozesua kontrolatzeko, akatsak minimizatzeko eta hazitako kristalean zehar propietate elektriko homogeneoak lortzeko.

Prozesuaren Ekonomia Hobetzeko Ragoaren Bizitza Luzatua:TaC estaldura sendoak higadurari, korrosioari eta shock termikoaren aurkako erresistentzia paregabea eskaintzen du, TaC-Coating Crucible-ren bizitza iraupena nabarmen luzatuz estali gabeko alternatiben aldean. Horrek arragoa ordezkatzeko gutxiago, geldialdi-denbora murrizten du eta prozesu-ekonomia orokorra hobetzen du.

Erdieroaleen aplikazio aurreratuak gaitzea:

TaC-Coating Crucible aurreratua gero eta harrera handiagoa aurkitzen ari da hurrengo belaunaldiko material erdieroaleen hazkundean:

Erdieroale konposatuak:TaC-Coating Crucible-k eskaintzen duen ingurune kontrolatua eta bateragarritasun kimikoa ezinbestekoak dira erdieroale konposatu konplexuak hazteko, hala nola galio artsenuroa (GaAs) eta indio fosfuroa (InP), maiztasun handiko elektronikan, optoelektronikan eta beste aplikazio zorrotz batzuetan erabiltzen direnak. .

Fusio-puntu handiko materialak:TaC-Coating Crucible-ren tenperatura-erresistentzia paregabeari esker, ezin hobea da fusio-puntu handiko material erdieroaleak hazteko, besteak beste, silizio karburoa (SiC) eta galio nitruroa (GaN), potentzia elektronika eta errendimendu handiko beste aplikazio batzuk iraultzen ari direnak.