SiC estalitako Halfmoon zatiak

Halfmoon Parts, premium siliziozko karburoz (SiC) estalita daudenak, epitaxia prozesuetan funtsezko ezaugarriak dira, bai obleen garraiatzaile bai eroale termiko gisa. Ilargi-erdi forma espezializatuak forma zilindriko batean muntatzeko metodo bat eskaintzen du, erreaktore epitaxialen barnean finkagarri gisa balio duena. Ganbara edo erreaktorearen ingurunean, obleak bermatu behar dira, baina uniformeki berotu behar dira film meheen deposizio kritikoa gertatzen den bitartean. SiC estalitako Halfmoon Parts-ek euskarri mekaniko, egonkortasun termiko eta iraunkortasun kimiko kopuru egokia hornitzen dute zeregin hauek egiteko.

GrafitoaHalfmoon Piezen substratu-materiala da eta bere eroankortasun termiko oso onagatik eta pisu eta indar nahiko baxuagatik aukeratzen da. Grafitoaren gainazala purutasun handiko lurrun kimikoko silizio karburozko (CVD SiC) metatutako gainazal trinko batez estalita dago, hazkunde epitaxialarekin lotutako ingurune oldarkorren aurka sendoa izateko. SiC estaldurak piezen gainazaleko gogortasuna hobetzen du eta hidrogenoa eta kloroa bezalako gas erreaktiboekiko erresistentzia ematen du, epe luzerako egonkortasun ona eta kutsadura oso mugatua ematen du prozesatzeko garaian. Grafitoak eta SiC-ek elkarrekin lan egiten dute Halfmoon zatietan, erresistentzia mekanikoaren oreka egokia eskaintzeko, propietate kimiko eta termikoekin.

-ren eginkizun garrantzitsuenetako batSiC estalitaHalfmoon Parts obleen euskarria da. Obleak epitaxia osoan zehar lauak eta egonkorrak izatea espero da, geruza kristalinoetan sare-egituraren hazkunde uniformea ​​errazteko. Euskarrietako piezen edozein malgutasun edo ezegonkortasun mailak akatsen geruzak sor ditzake epitaxian eta, azken finean, gailuaren errendimenduan eragina izan dezakete. Halfmoon Partsak arreta handiz fabrikatzen dira tenperatura altuetan dimentsio-egonkortasuna lortzeko, deformazio potentziala mugatzeko eta obleak egokiak jartzeko errezeta epitaxial bakoitzean. Egiturazko osotasun hori kalitate epitaxial hobea eta etekin handiagoa lortzen da.

Ilargi Erdiko Atalen funtzio berdin garrantzitsu bat eroapen termikoa da. Ganbera epitaxial batean, eroankortasun termiko uniforme eta egonkorrean funtsezkoa da kalitate handiko film meheak lortzeko. Grafitozko nukleoa oso egokia da eroankortasun termikorako, berotze prozesuan laguntzeko eta tenperaturaren banaketa uniformea ​​errazteko. SiC estaldurak nukleoa prozesuko neke termikotik, degradaziotik eta kutsaduratik babesten du. Hori dela eta, obleak uniformeki berotu daitezke tenperatura transferentzia uniformea ​​lortzeko eta akatsik gabeko geruza epitaxialak garatzeko. Beste era batera esanda, baldintza termiko zehatzak eskatzen dituzten film meheko hazkuntza-prozesuetarako, SiC estalitako Halfmoon Parts-ek eraginkortasuna eta fidagarritasuna eskaintzen dituzte. Iraupena osagaien funtsezko alderdia da. Epitaxia sarritan eraikuntza-material arruntek degradatu gabe jasan dezaketenaren gaindiko tenperatura altuetan ziklo termikoan datza.

Garbitasuna beste abantaila garrantzitsu bat da. Epitaxia kutsadurarekiko oso sentikorra denez, aparteko garbitasun handiko CVD SiC estaldura erabiltzeak erreakzio-ganberako kutsadura ezabatzen du. Honek partikula sortzea gutxitzen du eta obleak akatsetatik babesten ditu. Gailuen geometrien etengabeko murrizketak eta prozesu epitaxialaren eskakizunen etengabeko murrizketak kutsaduraren kontrola funtsezkoa egiten dute produkzio-kalitate koherentea bermatzeko.

Semicorex SiC estalitako Halfmoon Parts-ek garbitasun arazoei aurre egiteaz gain, malguak dira eta sistema epitaxialaren hainbat konfigurazio egokitzeko egokitu daitezke. Dimentsio, estalduraren lodiera eta ekipamendu zorrotzean hipotetikoki egokitzen diren diseinu/tolerantzia batzuetan ere fabrika daitezke. Malgutasun honek lehendik dauden ekipoak ondo integra daitezkeela ziurtatzen du eta prozesuen bateragarritasun hoberenari eusten dio.