Epitaxia eta MOCVD bezalako obleak manipulatzeko prozesuei dagokienez, Semicorex-en Tenperatura handiko SiC estaldura Plasma Etch Chambers da aukerarik onena. Gure garraiolariek bero-erresistentzia handiagoa eskaintzen dute, baita uniformetasun termikoa ere eta erresistentzia kimiko iraunkorra gure SiC kristalezko estaldurari esker.
Irakurri gehiagoBidali kontsulta