Semicorex-en silizio-karburoz estalitako suszeptorea Induktiboki Akoplatutako Plasmarako (ICP) bereziki diseinatuta dago tenperatura altuko obleak manipulatzeko prozesuetarako, hala nola epitaxia eta MOCVD. 1600 °C arteko tenperatura altuko oxidazio-erresistentzia egonkor batekin, gure eramaileek profil termikoak, gas-fluxu-eredu laminarrak bermatzen dituzte eta kutsadura edo ezpurutasunen hedapena ekiditen dute.
Irakurri gehiagoBidali kontsulta