Zer da tenperatura baxuko plasma grabatzea?

Plasma materiaren laugarren egoera da, eta zeregin erabakigarria betetzen du bai industria-aplikazioetan, bai fenomeno naturaletan. Esaterako, plasma tximistan dago eta ugari sortzen da eguzkiaren gainazalean, non nukleoaren tenperatura 13.500 °C harrigarrira iristen den. Tenperatura handiko plasma hau ez da egokia industria-ekoizpen-prozesu gehienetarako.

Bestalde, tenperatura baxuko plasma artifizialki sortutako plasma forma bat da, erreakzio kimikoak bizkortzeko energia erabiltzen duena, beroa baino gehiago. Bere tenperatura normalean giro-tenperaturatik ehunka gradu Celsius artekoa da, eta oso eraginkorra da hainbat aplikaziotarako.

Plasma artifiziala sortzeko urratsak:

1. Murriztu ganberan presioa: hasi huts-ponpa bat erabiliz barrunbeko presioa jaisteko. Presio baxua lortzea ezinbestekoa da plasma egonkortzeko eta gasaren ionizazioa errazteko.

2. Prozesuko gasa sartu: prozesuko gas espezifikoak barrunbean sartu. Gas hauek plasmako partikulen iturri nagusi gisa balio dute.

3. Plasma kitzikatu: Aplikatu potentzia gasa ionizatzeko, plasma eraginkortasunez osatuz.

4. Plasma desaktibatu eta Presio atmosferikoa berreskuratu: nahi diren erreakzioak amaitutakoan, plasma itzali eta ganbera presio atmosferikora itzuli.

Tenperatura baxuko plasmaren aplikazioak erdieroaleen fabrikazioan:

Tenperatura baxuko plasma ezinbestekoa da erdieroaleen fabrikazioan, eta funtzio kritikoak betetzen ditu grabaketa lehorrean, lurrun-deposizio fisikoan (PVD), lurrun-deposizio kimikoan (CVD), geruza atomikoan (ALD), ioien inplantazioan, errautsak eta amaierako detekzioan. Bere aldakortasuna eta eraginkortasuna industrian oinarrizko tresna bihurtzen dute.

Semicorex eskaintzakplasma grabatzeko kalitate handiko soluzioak. Kontsultarik baduzu edo xehetasun gehiago behar badituzu, ez izan zalantzarik eta jarri gurekin harremanetan.

Harremanetarako telefono zenbakia +86-13567891907

Posta elektronikoa: sales@semicorex.com