MOCVD susceptor TaC estaldurarekin

Semicorex MOCVD Susceptor TaC estaldurarekin arreta handiz hautatutako grafitoz egina dago, errendimendu eta iraunkortasun handia bermatzeko bere ezaugarri bereziengatik aukeratua. Grafitoa bere eroankortasun termiko eta elektriko bikainagatik da ezaguna, baita MOCVD prozesuetan ohikoak diren tenperatura altuak jasateko duen gaitasunagatik ere. MOCVD Susceptor honen ezaugarri nagusia TaC estalduran datza. Tantalo Karburoa bere gogortasun, inertetasun kimiko eta egonkortasun termikoagatik ezaguna den zeramikazko material erregogorra da. Grafitoaren suszeptorea TaC-rekin estaliz, MOCVD prozesuen baldintza zorrotzak jasaten ez ezik, sistemaren errendimendu orokorra eta iraunkortasuna hobetzen dituen osagai bat lortzen dugu.

TaC estaldura duen MOCVD Susceptor-ek estalduraren eta grafitozko substratuaren arteko lotura sendoa bermatzen du. Grafitoaren hautaketa zainduak zeregin erabakigarria du horretan. TaC estaldura duen MOCVD susceptorrean erabilitako grafitoaren Hedapen Termikoaren Koefizientea (CTE) bat dator TaC estaldurarekin. CTE balioen parekatze estu honek MOCVD prozesuetan ohikoak diren berotze- eta hozte-ziklo azkarretan gerta daitezkeen tentsio termikoak minimizatzen ditu. Ondorioz, TaC estaldura sendoago itsasten da grafitoaren substratuari, eta suszeptorearen osotasun mekanikoa eta bizi-iraupena nabarmen hobetzen ditu.

TaC estaldura duen MOCVD Susceptor oso iraunkorra da eta MOCVD prozesuko tentsio mekanikoei eta baldintza gogorrak jasan ditzake degradatu gabe. Iraunkortasun hori ezinbestekoa da errendimendu handiko hazkunde epitaxialerako behar den geometria eta gainazaleko kalitate zehatza mantentzeko. TaC estaldura sendoak suszeptorearen bizitza operatiboa luzatzen du, ordezkapenen maiztasuna murriztuz eta MOCVD sistema baten jabearen kostu orokorra murrizten du.

TaC-ren egonkortasun termikoari esker, TaC estaldura duen MOCVD Susceptor-ak MOCVD prozesu eraginkorretarako beharrezkoak diren tenperatura altuetan funtziona dezake. Horrek esan nahi du TaC estaldura duen MOCVD Susceptor-ek deposizio-prozesu ugari onartzen dituela, tenperatura baxuko GaN hazkuntzatik tenperatura altuko SiC epitaxiaraino, osagai baliotsua bihurtuz beren MOCVD sistemak hainbat aplikaziotarako optimizatu nahi dituzten erdieroaleen fabrikatzaileentzat.

Semicorex MOCVD susceptor TaC estaldurarekin erdieroaleen epitaxian aurrerapen garrantzitsua da. Grafitoaren eta TaCren propietateak konbinatuz, MOCVD prozesu modernoen eskakizunak betetzen ez ezik gainditzen dituen suszeptore bat garatu dugu. Grafitozko substratuaren eta TaC estalduraren arteko hedapen termikoaren (CTE) koefiziente estuak lotura sendoa bermatzen dute, eta TaCren aparteko gogortasun, inertetasun kimiko eta egonkortasun termikoak babes eta iraunkortasun paregabeak eskaintzen ditu. Honen ondorioz, errendimendu handiagoa ematen duen susceptor bat lortzen da, hazkunde epitaxialaren kalitatea hobetzen du eta MOCVD sistemen bizitza operatiboa luzatzen du. Erdieroaleen fabrikatzaileek TaC estaldura duen MOCVD Susceptor-ean fidatu daitezke errendimendu handiagoak, kostu txikiagoak eta prozesu malgutasun handiagoa lortzeko, erdieroaleen fabrikazioan berrikuntza teknologikoa eta bikaintasuna lortzeko ezinbesteko osagai bihurtuz.