MOCVD 3x2'' Hargailua

Semicorex MOCVD 3x2'' Susceptor-a silizio karburoarekin (SiC) estaldura-prozesu zorrotza jasaten duten grafito ultrapuruko kalifikazioekin egina dago. SiC estaldura honek hainbat funtzio kritiko betetzen ditu, batez ere substraturako bero-transferentzia oso eraginkorra ahalbidetzen duena. Bero-transferentzia eraginkorra funtsezkoa da substratuan tenperatura-banaketa uniformea ​​lortzeko, eta, horrela, film meheen deposizio homogeneoa eta kalitatezkoa bermatzeko, ezinbestekoa den gailu erdieroaleen fabrikazioan.

MOCVD 3x2'' Susceptor-en diseinuaren funtsezko kontuetako bat hedapen termikoaren (CTE) bateragarritasuna da grafito-substratuaren eta silizio-karburoaren estalduraren artean. Gure grafito ultrapuruaren hedapen termikoaren propietateak silizio-karburoarenekin arretaz uztartzen dira. Bateragarritasun horrek MOCVD prozesuak berezko dituen tenperatura altuko zikloetan tentsio termikoak eta balizko deformazio arriskua murrizten du. Tentsio termikoaren azpian egituraren osotasuna mantentzea ezinbestekoa da errendimendu koherentea eta fidagarritasuna lortzeko, eta horrela erdieroaleen obleetan akatsak izateko probabilitatea murrizten da.

Bateragarritasun termikoaz gain, MOCVD 3x2'' Susceptor-a inertetasun kimiko sendoa erakusteko diseinatuta dago MOCVD prozesuetan erabili ohi diren produktu kimiko aurrekarien eraginpean. Inertetasun hori funtsezkoa da suszeptorearen eta aitzindarien arteko erreakzio kimikoak saihesteko, kutsadura eragin dezaketenak eta metatutako filmen garbitasunari eta kalitateari kalte egin diezaioketen. Bateragarritasun kimikoa bermatuz, suszeptoreak film meheen eta gailu erdieroale orokorren osotasuna mantentzen laguntzen du.

Semicorex MOCVD 3x2'' suszeptorearen fabrikazio-prozesuak doitasun handiko mekanizazioa dakar, unitate bakoitzak kalitate eta zehaztasun dimentsioko estandar zorrotzak betetzen dituela bermatuz. Susceptor bakoitzari hiru dimentsioko azterketa integrala egiten zaio, diseinuaren zehaztapenekin duen zehaztasuna eta adostasuna egiaztatzeko. Kalitate-kontroleko prozesu zorrotz honek substratuak seguru eta uniformeki eusten direla bermatzen du, eta hori ezinbestekoa da oblearen gainazalean deposizio uniformea ​​lortzeko. Deposizioaren uniformetasuna funtsezkoa da azken gailu erdieroaleen errendimendu eta fidagarritasunerako.

Erabiltzaileen erosotasuna MOCVD 3x2'' Susceptor-en diseinuaren beste oinarri bat da. Susceptor-a substratuen karga eta deskarga errazteko diseinatuta dago, eraginkortasun operatiboa nabarmen hobetuz. Manipulatzeko erraztasun horrek fabrikazio-prozesua bizkortu ez ezik, karga eta deskargan zehar substratuaren kalte-arriskua ere murrizten du, eta horrela etekin orokorra hobetzen du eta obleen haustura eta akatsekin lotutako kostuak murrizten ditu.

Gainera, MOCVD 3x2'' Susceptor-ek azido sendoekiko erresistentzia paregabea erakusten du, garbiketa-eragiketetan sarritan erabiltzen direnak hondakinak eta kutsatzaileak kentzeko. Azido-erresistentzia honek suszeptoreak bere egitura-osotasuna eta errendimendu-ezaugarriak mantentzen dituela ziurtatzen du garbiketa-ziklo anitzetan. Ondorioz, susceptor-en bizitza iraupena luzatzen da, jabetza-kostu osoa murrizten lagunduz eta denboran zehar errendimendu koherentea bermatuz.

Laburbilduz, Semicorex-en MOCVD 3x2'' Susceptor osagai oso sofistikatua eta aurreratua da, eta abantaila ugari eskaintzen ditu, besteak beste, bero-transferentzia eraginkortasun handiagoa, bateragarritasun termiko eta kimikoa, doitasun handiko mekanizazioa, erabilerraza den diseinua eta azido sendoa. erresistentzia. Ezaugarri hauek, kolektiboki, erdieroaleen fabrikazio prozesuan ezinbesteko tresna bihurtzen dute, erdieroaleen obleen kalitate handiko, fidagarri eta eraginkorra ekoizteko. MOCVD 3x2'' Susceptor aurreratua beren prozesuetan integratuz, erdieroaleen fabrikatzaileek errendimendu handiagoak, gailuen errendimendu hobea eta ekoizpen-ziklo errentagarriagoa lor dezakete.