Garbitasun handiko grafito hautsa

Semicorex purutasun handikoagrafitoahautsa material kritikoa da erdieroaleen industrian. Aparteko garbitasun maila eta propietate fisiko eta kimiko bikainak dituenez, material hau ezinbestekoa da errendimendu estandar zorrotzak eskatzen dituzten aplikazioetarako.

Ezaugarri nagusiak

• Aparteko purutasuna: purutasun handiko grafito hautsak normalean %99,9tik gorako karbono edukia lortzen du, kristalen hazkuntza prozesuan kutsadura minimoa bermatuz. Garbitasun maila hori ezinbestekoa da erdieroaleen obleen osotasuna eta kalitatea mantentzeko.
• Eroankortasun termiko bikaina: materialaren eroankortasun termiko bikainak beroaren banaketa uniformea ​​ahalbidetzen du, funtsezkoa kristal erdieroaleen hazkuntza kontrolatutako inguruneak mantentzeko.
• Tenperatura handiko erresistentzia: purutasun handiko grafito hautsak muturreko tenperaturak jasan ditzake degradaziorik gabe, erdieroaleen fabrikazioan erabiltzen diren tenperatura altuko labeetarako aproposa da.
• Egonkortasun kimikoa: erreakzio kimikoekiko duen erresistentziak iraunkortasuna eta fidagarritasuna bermatzen ditu baldintza gogorretan esposizio luzean, tenperatura altuak eta ingurune erreaktiboak barne.
• Partikula-tamaina pertsonalizagarria: partikula tamaina desberdinetan eskuragarri dago, hautsa erdieroaleen kristalen hazkuntza prozesu desberdinen behar espezifikoei erantzuteko egokitu daiteke.

Aplikazio erdieroaleen kristalen hazkundean

1. SiC kristalaren hazkundea:

Garbitasun handiko grafito hautsa asko erabiltzen da silizio karburoa (SiC) kristalen hazkuntzan, gailu erdieroale aurreratuak ekoizteko funtsezko prozesu bat. Hautsa grafitozko osagai porotsuen ekoizpenean erabiltzen da, hala nola arragoa eta isolamendu materialak, kalitate handiko SiC kristalen hazkuntza onartzen dutenak. Bere purutasun handiak ezpurutasunak gutxitzen ditu, eta, ondorioz, sortzen diren kristalen propietate elektriko eta termikoak hobetzen ditu.

2. Silizio fotovoltaikoa kristalaren hazkundea:

Industria fotovoltaikoan, purutasun handiko grafito hautsa erabiltzen da kristal bakarreko eta silizio polikristalinoa hazteko osagaiak ekoizteko. Osagai hauek, hala nola, moldeak eta berogailuak, eguzki-zeluletarako siliziozko obleen fabrikazioan kalitate eta etekin koherentea bermatzen dute.

3. Geruza epitaxiala deposizioa:

Materiala epitaxia prozesuetan ere parte da, non baldintza termiko eta kimiko zehatzak behar diren material erdieroaleen geruzak hazteko. Garbitasun handiko grafito-hautsak epitaxia osagaiak fabrikatzen laguntzen du, hala nola suszeptoreak, errendimendu termiko eta kimiko aparta eskatzen dutenak.

4. Grafitoan oinarritutako isolamendu termikoa:

Kristalak hazteko erabiltzen diren tenperatura altuko labeetan, grafito hautsa erabiltzen da ingurune termiko egonkorra mantentzen duten isolamendu-materialak sortzeko. Horrek prozesuaren eraginkortasuna hobetzen du eta hazitako kristalen uniformetasuna bermatzen du.

Semicorex-en purutasun handikoagrafitoahautsa bere kalitate paregabeagatik eta aplikazioetan oinarritutako diseinuagatik nabarmentzen da. Gure ekoizpen prozesu zorrotzek koherentzia, purutasun handia eta neurrira egindako zehaztapenak bermatzen dituzte erdieroaleen industriaren eskakizun zorrotzak betetzeko.

Semicorex Garbitasun handiko grafito hautsa erdieroaleen kristalen hazkuntzan oinarrizko materiala da, eta aplikazio zorrotzetan parekorik gabeko errendimendua eskaintzen du. Bere propietate termiko, kimiko eta estruktural apartekoek gailu erdieroale aurreratuen ekoizpen arrakastatsua bermatzen dute. Berrikuntzaren eta kalitatearen aldeko apustuarekin, Semicorex-ek soluzio fidagarria eskaintzen die erdieroaleen prozesuetan bikaintasuna lortu nahi duten fabrikatzaileei.