CVD TaC Estaldura Estalkia

Semicorex CVD TaC Estaldura Estaldurak gogortasun ikusgarria du, normalean 2500-3000 HVra iristen da Vickers eskalan. Aparteko gogortasun hau tantalioaren eta karbono atomoen arteko lotura kobalente izugarri sendoetatik dator, higadura urratzailearen eta deformazio mekanikoaren aurkako hesi trinko eta penetrezina osatuz. Termino praktikoetan, hori denbora luzez zorrotzago mantentzen diren, CVD TaC Coating Cover-en dimentsioko zehaztasuna mantentzen eta errendimendu koherentea eskaintzen dute bizitza osoan zehar.

Grafitoak, bere propietateen konbinazio bereziarekin, aplikazio sorta zabaletarako potentzial izugarria du. Hala ere, berezko ahuleziak erabilera mugatzen du askotan. CVD TaC estaldurek jokoa aldatzen dute, grafitozko substratuekin lotura izugarri sendoa sortuz, bi munduetako onena konbinatzen duen material sinergiko bat sortuz: grafitoaren eroankortasun termiko eta elektriko handia CVDren gogortasun, higadura erresistentzia eta inertetasun kimikoarekin. TaC Estaldura Estalkia.

Epitaxia-erreaktoreen tenperatura-gorabeherek materialen hondamena eragin dezakete, pitzadurak, okertzeak eta hutsegite katastrofikoak eraginez. CVD TaC estaldura-estalkiak, hala ere, shock termikoen erresistentzia nabarmena du, berotze- eta hozte-ziklo azkarrak jasateko gai da egituraren osotasuna arriskuan jarri gabe. Erresilientzia hau CVD TaC Coating Cover-en mikroegitura berezitik dator, hedapen eta uzkurdura azkarrak ahalbidetzen dituena barne-tentsio garrantzitsurik sortu gabe.

Azido korrosiboetatik disolbatzaile oldarkorretara, gudu kimikoak barkaezina izan daiteke. CVD TaC estaldura-estalkia, hala ere, irmoa da, eta erresistentzia nabarmena erakusten du produktu kimiko eta agente korrosibo ugariren aurrean. Inertetasun kimiko honek aukera ezin hobea bihurtzen du produktu kimikoen prozesatzeko, petrolio eta gasaren esploraziorako eta osagaiak ingurune kimiko gogorren eraginpean dauden beste industria batzuetan.

Tantalo Karburoa (TaC)  Estaldura Ebakidura mikroskopiko batean

Epitaxia ekipoetan beste aplikazio gako batzuk:

Susceptor eta obleen eramaileak:Osagai hauek substratuari eusten diote eta berotzen dute hazkunde epitaxialean. CVD TaC estaldurek susceptor eta obleen garraiatzaileen beroaren banaketa uniformea ​​eskaintzen dute, substratuaren kutsadura saihesten dute eta tenperatura altuek eta gas erreaktiboek eragindako deformazioaren eta degradazioaren aurkako erresistentzia hobetzen dute.

Gas-injektoreak eta toberak:Osagai hauek substratuaren gainazalera gas erreaktiboen fluxu zehatzak emateaz arduratzen dira. CVD TaC estaldurek korrosioaren eta higaduraren aurkako erresistentzia hobetzen dute, gasaren entrega koherentea bermatuz eta kristalen hazkundea eten dezakeen partikulen kutsadura saihestuz.

Ganberaren estaldurak eta bero-ezkutuak:Epitaxi-erreaktoreen barruko hormek bero bizia, gas erreaktiboak eta potentzial deposizio-pilaketa jasaten dituzte. CVD TaC estaldurek gainazal hauek babesten dituzte, haien bizi-iraupena luzatuz, partikula sortzea gutxituz eta garbiketa-prozedurak erraztuz.