Semicorex-en ICP grabatzeko obleen euskarria irtenbide ezin hobea da tenperatura altuko obleak manipulatzeko prozesuetarako, hala nola epitaxia eta MOCVD. 1600 °C arteko tenperatura altuko oxidazio-erresistentzia egonkorrarekin, gure eramaileek profil termikoak, gas-fluxu laminarraren ereduak bermatzen dituzte eta kutsadura edo ezpurutasunen hedapena ekiditen dute.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaSemicorex-en PSS Etching Carrier Tray obleak prozesatzeko bereziki diseinatuta dago epitaxia-ekipamenduen aplikazio zorrotzetarako. Gure grafito-eramaile ultrapurua aproposa da MOCVD, epitaxia suszeptoreak, krepe edo satelite-plataformak eta obleak manipulatzeko prozesatzeko (adibidez, grabatua) bezalako film mehe-faseetarako. Wafer Prozesatzeko PSS Etching Carrier Tray-k bero eta korrosioarekiko erresistentzia handia du, bero banaketa propietate bikainak eta eroankortasun termiko handia ditu. Gure produktuak errentagarriak dira eta prezio abantaila ona dute. Europako eta Amerikako merkatu askotara heltzen gara eta Txinan epe luzerako bazkide izatea espero dugu.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaSemicorex-en, LEDrako PSS Etching Carrier Tray diseinatu dugu bereziki hazkunde epitaxialerako eta obleak manipulatzeko prozesuetarako beharrezkoak diren ingurune gogorretarako. Gure grafito-eramaile ultrapurua aproposa da MOCVD, epitaxia suszeptoreak, krepe edo satelite-plataformak eta obleak manipulatzeko prozesatzeko (adibidez, grabatua) bezalako film mehe-faseetarako. SiC estalitako eramaileak bero eta korrosioarekiko erresistentzia handia du, bero banaketa propietate bikainak eta eroankortasun termiko handia. Gure LEDrako PSS Etching Carrier Tray errentagarria da eta prezio abantaila ona eskaintzen du. Europako eta Amerikako merkatu askotara heltzen gara eta Txinan epe luzerako bazkide izatea espero dugu.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaSemicorex PSS Etching Carrier Plate Semiconductor for epitaxial hazkuntza eta obleak manipulatzeko prozesuetarako beharrezkoak diren tenperatura altuko eta garbiketa kimiko gogorrak egiteko bereziki diseinatuta dago. Gure Erdieroalerako PSS Etching Plater Eramaile ultrapurua film meheen jalkitze-fasetan oblei eusteko diseinatuta dago, hala nola MOCVD eta epitaxia suszeptoreak, krepe edo satelite plataformetan. Gure SiC estalitako eramaileak bero eta korrosioarekiko erresistentzia handia du, bero banaketa propietate bikainak eta eroankortasun termiko handia. Gure bezeroei irtenbide errentagarriak eskaintzen dizkiegu, eta gure produktuek Europako eta Amerikako merkatu asko hartzen dituzte. Semicorex-ek zure epe luzerako bazkide izatea espero du Txinan.
Irakurri gehiagoBidali kontsultaHazkunde epixialean eta obleak manipulatzeko prozesatzeko erabiltzen diren ostia-eramaileek tenperatura altuak eta garbiketa kimiko gogorrak jasan behar dituzte. Semicorex SiC estalitako PSS Etching Carrier epitaxia-ekipamenduen aplikazio zorrotz hauetarako bereziki diseinatua. Gure produktuek prezio abantaila ona dute eta Europako eta Amerikako merkatu asko estaltzen dituzte. Espero dugu zure epe luzerako bazkide bihurtzea Txinan.
Irakurri gehiagoBidali kontsulta