Zer da SiC itsasontzi bat eta zeintzuk dira bere fabrikazio-prozesu desberdinak?

1. Fabrikazio-prozesu desberdinakSiC Itsasontzia

(1) Geruza bat estaltzeaSiC filmaaaagrafitoaren gainazaleankristalezko itsasontziakCVD bidez

Itsasontzi mota honek grafitozko nukleoa du, pieza bakarrean mekanizatzen dena. Hala ere,grafitoa porotsua daeta partikulak sortzeko joera, a aplikatzea beharrezkoa delarikSiC filmaaaa estaldurabere gainazalean. Hedapen Termikoaren Koefizientearen (CTE) grafitoaren gorputzaren eta grafitoaren arteko desadostasuna dela eta.SiC filmaaaa, litekeena da estaldura zuritu egingo dela berotze- eta hozte-ziklo askoren ondoren, eta partikulen kutsadura eragingo du. Itsasontzi hauek garestienak dira eta urtebete inguruko iraupena dute.

(2) Geruza bat estaltzeaSiC filmaaaabirkristalizatuanSiC kristalezko ontziak

BirkristalizatuSiC itsasontziakporotsuak ere badira eta erraz sor ditzakete partikulak. Hori dela eta, birkristalizatutako osagai indibidualakSiC itsasontziakaurrez eratu, sinterizatu eta, ondoren, bereizita mekanizatu behar da. Ondoren, osagaiak tenperatura altuetan lotzen dira Si pasta erabiliz. Behin txalupa bakar batean bilduta, aSiC filmaaaaCVD bidez aplikatzen da. Hau birkristaldu zenSiC itsasontziafabrikazio prozesu luzeena du eta garestia da, baina azaleraCVD estaldurakaltetu ere egin daiteke, hiru urte inguruko bizitzarekin.

(3)MonolitikoaSiC kristalezko ontziak

HauekitsasontziakSiC materialez osatuta daude guztiz. SiC hautsa moldatu eta sinterizatu behar da itsasontzi monolitiko baten forman. Oso garestiak dira, oso iraunkorrak dira eta partikulak sortzeko aukera gutxiago dute. Hala ere, itsasontzi hauek % 10-15 askeko silizioa daukate, fluoraren eta kloroaren eraginez higadura jasaten duena, partikulak kutsatzea eraginez.

2. Zergatik ez da gomendatzen lehor garbiketa?

Laburbilduz, gatikSiC itsasontziakbatekin estalitaSiC filmaaaa CVD bidez, gainazaleko estaldura garbiketa lehorrean zuritzeko joera dago, eta horrek partikulen kutsadura eragiten du. MonolitikorakoSiC itsasontziaksilizio libre kopuru txiki bat dutenek, fluoroa edo kloroa duten gasekiko esposizioak higadura eta partikulak sortzea ekar dezake, kutsadura eraginez.**